氧化层硅片
热氧化厚膜以优越的表面洁净度与安定的质量获得全世界最高的市占率。
热氧化厚膜以优越的表面洁净度与安定的质量获得全世界最高的市占率。
产品介绍
“氧化层硅片”用途
Undercladding wafer for AWG
在数组波导光栅(AWG)里，被称为Under clad层之最下层的SiO2膜对生产良率有着非常大的决定性作用。
§保证规格
項目 | 規格 |
膜厚 | 20um±5%（最大膜厚度） |
面内均一性 | ±0.5% |
面间均一性 | ±0.5% |
折射率(@1550nm) | 1.4458±0.0001 |
§标准品一览
尺寸 | 晶圆厚度 | 热氧化膜厚度 |
4inch | 525um 1mm | 15um、20um |
6inch | 625um 675um 1mm | 15um、20um |
8inch | 725um | 15um、20um |
12inch | 775um | 15um |
其他晶圆尺寸以及膜厚依顾客需求定制（厚度范围 ：0.1-30μm）
§折射率面内分布表面粗度数据
§无尘室
“氧化层硅片”用途
Undercladding wafer for AWG
在数组波导光栅(AWG)里，被称为Under clad层之最下层的SiO2膜对生产良率有着非常大的决定性作用。
§保证规格
項目 | 規格 |
膜厚 | 20um±5%（最大膜厚度） |
面内均一性 | ±0.5% |
面间均一性 | ±0.5% |
折射率(@1550nm) | 1.4458±0.0001 |
§标准品一览
尺寸 | 晶圆厚度 | 热氧化膜厚度 |
4inch | 525um 1mm | 15um、20um |
6inch | 625um 675um 1mm | 15um、20um |
8inch | 725um | 15um、20um |
12inch | 775um | 15um |
其他晶圆尺寸以及膜厚依顾客需求定制（厚度范围 ：0.1-30μm）
§折射率面内分布表面粗度数据
§无尘室
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